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光模塊的微組裝和封裝技術正朝著更高密度、更高速度和更低功耗的方向發展,以滿足AI數據中心等應用對高速率的需求。其核心在于精密的光電芯片封裝與高效的光路耦合。

下面這張流程圖梳理了光模塊微組裝的核心工藝流程,幫助你對其有個整體認識。

光模塊的微組裝,是將微小的光、電芯片精確“搭建”成模塊的過程。
芯片貼裝:這是組裝的第一步,核心是將激光器、調制器、探測器等光電器件精準地固定到基板或管座上。貼裝精度和導熱性是關鍵技術指標。目前,共晶貼片因良好的導熱和可靠性成為主流。同時,MRSI等公司推出的高速高精度固晶機,能實現低于1μm的貼片精度,以滿足高速光模塊的多芯片、高密度集成需求。
光路耦合:這是光模塊組裝中技術難度最高、最影響性能的環節之一,目標是讓光在芯片與光纖之間高效傳輸。當前主要通過高精度自動化設備(如MRSI-A-L全自動耦合系統)實現納米級精度的對準與固定。為了提升耦合效率并簡化工藝,行業也傾向于采用透鏡陣列等組件來優化光路。
電互連與板級裝配:實現芯片與電路板之間的電氣連接。除了傳統的引線鍵合,倒裝芯片鍵合技術能實現更高密度的互連。在板級裝配方面,一些新的結構設計(如英飛光創的專利)通過非直線裝配槽和點膠工藝,簡化了光器件與PCB板的組裝,提升了效率。
為滿足1.6T及更高速率光模塊的需求,封裝技術也在快速演進,呈現出從傳統分立式向晶圓級、異構化和共封裝發展的趨勢。
硅光技術:通過半導體工藝在硅芯片上集成光路,是實現高速、高集成度、低成本光模塊的關鍵路徑。中際旭創的1.6T光模塊就同時布局了硅光和傳統EML兩種方案。
CPO與LPO新架構:
2.5D/3D異構集成與先進工藝:通過TSV、微轉印等技術,將不同工藝制程的芯片(如硅光芯片、電芯片、存儲芯片)在垂直方向上進行高密度集成。盛合晶微的專利就描述了一種集成邏輯、存儲和光模塊的3D堆疊封裝結構,能有效縮小面積,減少傳輸功耗。
材料與工藝創新:
了解技術趨勢后,在實際應用中如何選擇呢?
光模塊封裝技術仍在快速迭代,未來有以下幾個關注點:
希望以上解析能幫助你更深入地理解光模塊的微組裝與封裝技術。如果你對某個特定類型的光模塊(如用于AI訓練的1.6T模塊)或其具體應用場景更感興趣,我可以提供更有針對性的介紹。
水基清洗的工藝和設備配置選擇對清洗精密器件尤其重要,一旦選定,就會作為一個長期的使用和運行方式。水基清洗劑必須滿足清洗、漂洗、干燥的全工藝流程。
污染物有多種,可歸納為離子型和非離子型兩大類。離子型污染物接觸到環境中的濕氣,通電后發生電化學遷移,形成樹枝狀結構體,造成低電阻通路,破壞了電路板功能。非離子型污染物可穿透PC B 的絕緣層,在PCB板表層下生長枝晶。除了離子型和非離子型污染物,還有粒狀污染物,例如焊料球、焊料槽內的浮點、灰塵、塵埃等,這些污染物會導致焊點質量降低、焊接時焊點拉尖、產生氣孔、短路等等多種不良現象。
這么多污染物,到底哪些才是最備受關注的呢?助焊劑或錫膏普遍應用于回流焊和波峰焊工藝中,它們主要由溶劑、潤濕劑、樹脂、緩蝕劑和活化劑等多種成分,焊后必然存在熱改性生成物,這些物質在所有污染物中的占據主導,從產品失效情況來而言,焊后殘余物是影響產品質量最主要的影響因素,離子型殘留物易引起電遷移使絕緣電阻下降,松香樹脂殘留物易吸附灰塵或雜質引發接觸電阻增大,嚴重者導致開路失效,因此焊后必須進行嚴格的清洗,才能保障電路板的質量。
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主營產品包括:集成電路與先進封裝清洗材料、電子焊接助焊劑、電子環保清洗設備、電子輔料等。
半導體技術應用節點:FlipChip ;2D/2.5D/3D堆疊集成;COB綁定前清洗;晶圓級封裝;高密度SIP焊后清洗;功率電子清洗。