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PoP疊層封裝和光電路組裝技術是當前半導體封裝領域兩大重要創新方向,它們分別從三維堆疊和光電融合的角度突破傳統性能瓶頸。下面這個表格直觀對比了它們的核心特性,之后我會詳細解釋其市場應用和未來趨勢。

| 特性維度 | PoP疊層封裝 | 光電路組裝技術 |
| 技術原理 | 將邏輯芯片(如處理器)和存儲芯片(如DRAM)在垂直方向上進行三維堆疊封裝。 | 將光波導、激光器、調制器等光學元件與電子芯片集成,用光信號傳輸替代或部分替代電信號。 |
| 核心優勢 | 高密度集成(顯著縮小PCB占用面積)、高性能(縮短互連路徑,提升數據傳輸速率)、設計靈活性高。 | 超高帶寬與低延遲(光纖傳輸容量是傳統銅線的數萬倍)、低功耗、抗電磁干擾。 |
| 主要挑戰 | 熱管理(堆疊芯片散熱困難)、焊接工藝復雜(需精確控制焊球高度與間距)、機械應力分析。 | 技術復雜度高(光電耦合、對準精度要求極高)、成本高昂、產業鏈尚在成熟中。 |
| 市場驅動力 | 移動設備對輕薄化和高性能的持續需求,AIoT設備對異構集成的要求。 | 數據中心對能耗控制和傳輸速率的極致追求,AI/HPCC對高速互連的需求,通信技術向CPO/CPO演進。 |
基于上述技術特點,兩種技術在不同的應用場景中發揮著關鍵作用。
PoP疊層封裝:主攻移動與便攜市場
PoP技術最成熟和廣泛的應用領域在于智能手機、平板電腦等空間極其寶貴的設備。它完美地將應用處理器(AP)與內存(如LPDDR)堆疊在一起,在提供強大性能的同時,最大限度地節省了主板空間。此外,在數碼相機、可穿戴設備和正在興起的AIoT模塊中,PoP也因其高集成度而成為優選方案。

光電路組裝技術:賦能高速數據基礎設施
光電路組裝技術是目前解決數據中心內部和數據中心之間海量數據傳輸瓶頸的關鍵技術。
展望未來,這兩大技術將繼續演進并相互融合:
性能持續提升:PoP技術正朝向更多層數(8層甚至以上)、更薄厚度(模塑高度壓縮至0.25mm以下)和更優的熱管理方案(如集成微型熱管)發展。光電路組裝則致力于更高的集成度(如硅光技術)和更低的傳輸損耗。
技術融合創新:異構集成成為核心趨勢。例如,日月光公司提出的扇出型PoP(FOPoP)將Fan-Out(扇出)技術與PoP相結合,消除了傳統基板,進一步提升了互連密度和電性能,為網絡市場帶來能效的顯著改善。同時,2.5D/3D TSV(硅通孔)等先進封裝技術也與兩者深度結合。
應用邊界拓寬:隨著5G-Advanced和6G通信、邊緣AI、自動駕駛的普及,對器件算力、功耗和尺寸的綜合要求將推動PoP和光電路組裝技術在汽車電子(如ADAS芯片)、醫療設備和工業傳感等更廣闊的市場中找到用武之地。
總而言之,PoP疊層封裝和光電路組裝并非相互替代的關系,而是面向不同需求、并行發展的關鍵技術路線。PoP在移動端和設備小型化方面優勢明顯,而光電路組裝則是解決數據中心和高速互聯瓶頸的未來之光。
水基清洗的工藝和設備配置選擇對清洗精密器件尤其重要,一旦選定,就會作為一個長期的使用和運行方式。水基清洗劑必須滿足清洗、漂洗、干燥的全工藝流程。
污染物有多種,可歸納為離子型和非離子型兩大類。離子型污染物接觸到環境中的濕氣,通電后發生電化學遷移,形成樹枝狀結構體,造成低電阻通路,破壞了電路板功能。非離子型污染物可穿透PC B 的絕緣層,在PCB板表層下生長枝晶。除了離子型和非離子型污染物,還有粒狀污染物,例如焊料球、焊料槽內的浮點、灰塵、塵埃等,這些污染物會導致焊點質量降低、焊接時焊點拉尖、產生氣孔、短路等等多種不良現象。
這么多污染物,到底哪些才是最備受關注的呢?助焊劑或錫膏普遍應用于回流焊和波峰焊工藝中,它們主要由溶劑、潤濕劑、樹脂、緩蝕劑和活化劑等多種成分,焊后必然存在熱改性生成物,這些物質在所有污染物中的占據主導,從產品失效情況來而言,焊后殘余物是影響產品質量最主要的影響因素,離子型殘留物易引起電遷移使絕緣電阻下降,松香樹脂殘留物易吸附灰塵或雜質引發接觸電阻增大,嚴重者導致開路失效,因此焊后必須進行嚴格的清洗,才能保障電路板的質量。
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主營產品包括:集成電路與先進封裝清洗材料、電子焊接助焊劑、電子環保清洗設備、電子輔料等。
半導體技術應用節點:FlipChip ;2D/2.5D/3D堆疊集成;COB綁定前清洗;晶圓級封裝;高密度SIP焊后清洗;功率電子清洗。